ASML

Из Википедии, бесплатной энциклопедии

ASML Holding N.V.
Изображение логотипа
Корпоративное здание ASML в Велдховене
Корпоративное здание ASML в Велдховене
Тип Публичная компания
Листинг на бирже Euronext: ASML
NASDAQ: ASML
Основание 1984
Основатели ASM International[d] и Philips
Расположение  Нидерланды: Велдховен
Ключевые фигуры Нилс Андерсен (председатель наблюдательного совета)
Петер Веннинк (CEO)[1]
Отрасль Полупроводниковая промышленность
Продукция фотолитографические системы
Собственный капитал ▼ €8,811 млрд (2022)[2]
Оборот ▲ €21,17 млрд (2022)[1]
Затраты на НИОКР ▲ €3,254 млрд (2022)[2]
Операционная прибыль ▼ €6,501 млрд (2022)[2]
Чистая прибыль ▼ €6,396 млрд (2022)[1]
Активы ▲ €36,30 млрд (2022)[2]
Капитализация €324 млрд (26.01.2024)[1]
Число сотрудников 37 643 (2022)[2]
Сайт asml.com/en (англ.)
Логотип Викисклада Медиафайлы на Викискладе

ASML — нидерландская компания, крупнейший производитель литографического оборудования для микроэлектронной промышленности, необходимого в том числе для изготовления СБИС, микросхем памяти, флеш-памяти, микропроцессоров.

Центральный офис — в Велдховене (европейский технологический регион Brainport Eindhoven), там же находятся исследовательские и производственные отделы, в местах установки оборудования действует более 60 центров обслуживания в 16 странах.

Компания, изначально называвшаяся ASM Lithography[3], была основана в 1984 году как совместное предприятие компаний Advanced Semiconductor Materials International (ASMI)[en] и Philips. Впоследствии у Philips осталась только небольшая часть акций ASML[4]. C рыночной капитализацией в $350 млрд (на осень 2021 года) компания входит в верхнюю часть индекса Nasdaq-100[5].

История[править | править код]

Компания Advanced Semiconductor Materials («Прогрессивные полупроводниковые материалы», ASM) была основана в Нидерландах в 1968 году; сначала она торговала оборудованием для производства полупроводниковых приборов, а в 1970-х года начала собственное производство такого оборудования.

Для разработки и производства оборудования, осуществляющего отдельный вид обработки полупроводников, фотолитографию, — в 1984 году было создано совместное предприятие с Philips, названное ASM Lithography; в 1985 году был открыт завод в Велдховене, рядом с лабораториями Philips. В 1986 году началось партнёрство ASM Lithography с немецким производителем оптики Carl Zeiss. В 1988 году был открыт филиал на Тайване.

Финансовые трудности вынудили ASM в 1988 году продать свою долю в ASML; в 1993 года Philips также начала продавать свою долю в ASML. В 1995 году акции ASML были размещены на Амстердамской фондовой бирже и на бирже NASDAQ. В феврале 1999 года с одним из конкурентов, компанией Applied Materials, был начат совместный проект SCALPEL по разработке литографии электронным лучом. В следующем месяце ASML начала участие в проекте Министерства энергетики США по разработке технологии литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV); параллельно с этим участвовала и в аналогичной европейской программе Euclides[en]. В 2001 году ASML вышла из проекта SCALPEL как менее перспективного, чем EUV.

В июне 1999 года у американской компании MicroUnity[en] было куплено подразделение по производству фотошаблонов для фотолитографии[6][7]. В 2000 году полупроводниковая отрасль начала переход на 300-миллиметровые пластины, для обработки таких пластин ASML разработала новую серию оборудования Twinscan, позволявшую одновременно на двух пластинах выполнять две разные операции. В декабре 2000 года ASML вышла на рынок Японии, несмотря на то, что там доминировали два основных её конкурента, Canon и Nikon. В 2001 году за 1,6 млрд долларов был куплен американский производитель литографических систем Silicon Valley Group (SVG), примерно равный по размеру ASML, основным её клиентом была Intel. Из-за спада в электронной отрасли ASML закончила 2001 год с убытком более 400 млн евро и резким падением выручки с 3,1 млрд евро до 1,8 млрд евро; к концу года было уволено 2000 сотрудников, или почти четверть персонала[6]. Несмотря на это, в 2002 году ASML стала ведущим поставщиком устройств для фотолитографии[8]. По состоянию на 2007 год ASML имела долю 65 % на мировом рынке фотолитографического оборудования[9].

На 2008 год установка ASML высшего класса Twinscan XT:1950 могла использоваться с техпроцессами вплоть до 38 нм[10] со скоростью до 131 пластины в час. В установке используется иммерсионная литография с водяной прослойкой и аргон-фторидный (argon-fluoride, ArF) эксимерный лазер с длиной волны 193 нм. На тот же момент литографическая установка в среднем стоила €22 млн[10].

В 2009 году ASML разрабатывала установки с лазерами на 13,5 нм (EUVL). 22 апреля 2009 бельгийский исследовательский центр Imec представил работоспособные чипы КМОП SRAM выполненные по техпроцессу 22 нм на прототипе установки ASML с EUVL[11].

Для финансирования дальнейших исследований в области технологии EUV в июле 2012 года компания продала 23 % своих акций трём крупнейшим клиентам — Intel, Samsung Electronics и TSMC. В октябре того же года за 1,95 млрд евро была куплена компания Cymer, базирующийся в Сан-Диего, — производитель источников ультрафиолетового излучения для литографических систем[12]. В 2016 году была куплена тайваньская компания Hermes Microvision, стоимость сделки составила 3,1 млрд долларов[13]. В 2020 году был куплен немецкий производитель оптики Berliner Glas[14].

В 2021 году Комиссия по национальной безопасности США по вопросам искусственного интеллекта рекомендовала Госдепартаменту США и Министерству торговли оказать давление на союзников с целью лишения КНР доступа к DUV- и EUV-технологиям, а также сопутствующим инструментам (в 2021 году на Китай приходилось порядка 16 % продаж её систем, на сумму 2,1 млрд евро)[15]. Запрет на экспорт наиболее передовых систем в КНР был введён ещё в 2019 году, а с сентября 2023 года правительство Нидерландов ввело лицензирование экспорта литографических систем[16][17]. ASML ищет возможности для развития своего бизнеса за пределами своей страны, где местное правительство по просьбе властей США запрещает ей продавать свои литографы в КНР[18][19].

К концу 2023 года компания разработала литограф, способный работать с техпроцессом 2 нм , начав отгрузку этих систем стоимостью в 300 млн долл. за единицу в начале 2024 года[20][21]. 6 из 10 таких литографов, которые произведёт ASML за год, заказала компания Intel (соответствующие техпроцессы она называет 20A и 18A), прочие купили TSMC, Samsung, SK Hynix и Micron. После 2024 года количество ежегодно выпускаемых ASML литографических сканеров, пригодных для выпуска двухнанометровой продукции, может увеличиться до 20 штук[22].

Собственники и руководство[править | править код]

Акции компании котируются на амстердамской площадке биржи Euronext (входят в индекс AEX) и на бирже NASDAQ (входят в индекс Nasdaq-100). Крупнейшими акционерами являются инвестиционные компании Capital Research and Management Company (10,29 %), BlackRock (8,25 %), T. Rowe Price (3,43 %)[2].

  • Нилс Смедегаард Андерсен (Nils Smedegaard Andersen) — председатель наблюдательного совета с 2023 года, также председатель наблюдательного совета компании Scan Global Logistics и член совета директоров Unilever, председатель Европейского круглого стола промышленников;, ранее возглавлял правление компаний Carlsberg (2001—2007) и Maersk (2007—2016)[23].
  • Петер Веннинк (Peter T.F.M. Wennink, род. в 1957 году) — президент, генеральный директор (CEO) и председатель правления с 2013 года, член правления с 1999 года, до этого работал в аудиторской фирме Deloitte.
  • Мартин ван ден Бринк (Martin A. van den Brink, род. в 1957 году) — президент и главный технологический директор, член правления с 1999 года, в компании с 1984 года.

Деятельность[править | править код]

Литографические установки ASML используются в производстве интегральных микросхем. В таких установках происходит процесс оптического проецирования специальных частично прозрачных шаблонов (масок) на поверхность полупроводниковой пластины, покрытую тонкой плёнкой светочувствительного материала (фоторезиста). Для каждой пластины эта процедура повторяется несколько десятков раз. После каждого проецирования происходит обработка пластины с нанесённым фоторезистом, в процессе которой формируются электронные структуры микросхем. Оптический метод, применяемый в установках ASML, стал использоваться для производства практически всех интегральных схем.

Компания производит литографическое оборудование, работающее в глубоком и экстремальном ультрафиолете. В 2022 году оборот компании составил 21,2 млрд евро, из них 15,4 млрд пришлось на продажу оборудования, 5,7 млрд — на обслуживание и модернизацию оборудования. За год было продано 345 литографическое систем, из них 40 — с экстремальным ультрафиолетовым излучением (длиной волны 13,5 нм)[2].

Основными рынками сбыта в 2022 году были Тайвань (38 % выручки), Республика Корея (29 %), КНР (14 %), США (9 %), Япония (5 %) и Сингапур (2 %)[24].

Сборка литографических систем осуществляется в Велдховене (Нидерланды), на заводе в Сан-Диего (Калифорния) изготавливаются генераторы ультрафиолетового излучения, а в Уилтоне[en] (Коннектикут) — оптические элементы и некоторые подсистемы, отдельные модули производятся на Тайване (в Тайбэе и Тайнане)[25].

В списке крупнейших публичных компаний мира Forbes Global 2000 за 2023 год ASML заняла 240-е место[26].

Продукция[править | править код]

Основные серии литографов ASML[27]:

  • 1984: PAS 2000, разрешение до 1 мкм, точность позиционирования до 250 нм
  • 1989: PAS 5000, разрешение около 0,5 мкм, точность до 100 нм
  • 1990-е: PAS 5500, разрешение 400—90 нм, точность до 100—12 нм
  • 2000-е: семейство TWINSCAN (NX, NXT), разрешение 100—38 нм, точность до 20—2 нм
  • 2010-е: экспериментальные EUV системы TWINSCAN NXE, разрешение 38—19 нм, точность лучше 3 нм

Помимо фотолитографии у компании есть разработки в области нанопечатной литографии[28].

Российские пользователи[править | править код]

В России использование степперов (литографов) ASML планировалось (по состоянию на 2008 год) на фабрике Ангстрем-Т[29].

Также среди российских пользователей ASML — НИИСИ, который использует установку проекционной пошаговой мультипликации (степпер) ASML PAS 5500/250С[30][31].

Установки ASML используются на передовой линии по производству микросхем в Зеленограде на заводе «Микрон» (PAS 5500/750F 248 nm/0.7 — 120 пластин в час и PAS/1150C 193 nm/0.75 — 135 пластин в час).

Примечания[править | править код]

  1. ↑ 1 2 3 4 ASML Holding N.V. (англ.). Reuters. Дата обращения: 26 января 2024.
  2. ↑ 1 2 3 4 5 6 7 Annual Report 2022 (англ.). ASML Holding N.V.. Дата обращения: 26 января 2024.
  3. ↑ About ASML: Our History. ASML Holding. Дата обращения: 18 июня 2020. Архивировано 7 июля 2020 года.
  4. ↑ ASML corporate history. Дата обращения: 12 ноября 2010. Архивировано из оригинала 1 августа 2009 года.
  5. ↑ Quotes For NASDAQ-100 Index (англ.). www.nasdaq.com. Дата обращения: 25 июля 2020. Архивировано 25 апреля 2021 года.
  6. ↑ 1 2 ASML Holding N.V. -- Company History (англ.). International Directory of Company Histories, Vol. 50. St. James Press, 2003. Дата обращения: 27 января 2024.
  7. ↑ History (англ.). ASML Holding N.V.. Дата обращения: 27 января 2024.
  8. ↑ Chris Mack. Milestones in Optical Lithography Tool Suppliers 12 (2005). — «ASML (4)». Дата обращения: 3 декабря 2013. Архивировано 14 мая 2014 года.
  9. ↑ ASML Press release 2007 quarter 4 Архивная копия от 7 июля 2011 на Wayback Machine «ASML increased global market share measured in net sales to 65 percent in 2007»
  10. ↑ 1 2 Press release 2008 quarter 3. Дата обращения: 12 ноября 2010. Архивировано из оригинала 7 июля 2011 года.
  11. ↑ IMEC presents functional 22nm SRAM cells fabricated using EUV technology Архивная копия от 25 апреля 2009 на Wayback Machine. IMEC press release, 22 April 2009.
  12. ↑ Chip gear maker ASML buys Cymer for $2.5 billion (англ.). Reuters (17 октября 2012). Дата обращения: 27 января 2024.
  13. ↑ Chip gear maker ASML buys Cymer for $2.5 billion (англ.). Bloomberg (15 июня 2016). Дата обращения: 27 января 2024. Архивировано 4 сентября 2016 года.
  14. ↑ Berliner Glas Group is taken over by semiconductor group ASML (англ.). Wiley Industry News (16 июля 2020). Дата обращения: 27 января 2024.
  15. ↑ Акции ASML упали из-за слухов о том, что США пытаются перекрыть ей поставки в Китай — акции китайских чипмейкеров наоборот подскочили (англ.). 3D News (6 июля 2022). Дата обращения: 27 января 2024.
  16. ↑ Нидерланды начали мешать ASML поставлять оборудование в Китай. Из-за санкций США // Ferra.ru, 3 января 2024
  17. ↑ Dutch semiconductor machine export restrictions to come into force in September (англ.). The Associated Press (30 июня 2023). Дата обращения: 27 января 2024. Архивировано 30 июня 2023 года.
  18. ↑ Самая важная в мире компания для производства чипов взбунтовалась против гнета США. Она бежит из родной страны, чтобы без помех торговать с Китаем // CNews, 7 марта 2024
  19. ↑ Власти Нидерландов попытались не дать ASML покинуть страну // Ferra.ru, 9 марта 2024
  20. ↑ 250 ящиков, включая 13 больших контейнеров. ASML начала поставки новейших 2-нм систем литографии компании Intel // IXBT.com, 22 декабря 2023
  21. ↑ ASML планирует в следующем году выпустить десять устройств, способных производить 2-нм чипы // 20.12.2023
  22. ↑ Intel оказалась самым активным покупателем оборудования ASML для 2-нм литографии [1] // 21.12.2023
  23. ↑ Nils Smedegaard Andersen (англ.). Reuters. Дата обращения: 26 января 2024.
  24. ↑ ASML Holding N.V. (англ.). MarketScreener. Дата обращения: 26 января 2024.
  25. ↑ Inside the insanely clean, precise world of high-tech manufacturing (англ.). ASML Holding N.V.. Дата обращения: 26 января 2024.
  26. ↑ ASML Holding (англ.). Forbes. Дата обращения: 28 января 2024.
  27. ↑ Архивированная копия. Дата обращения: 6 сентября 2014. Архивировано 6 сентября 2014 года.
  28. ↑ например, патенты в США 7618250, 7692771, заявки на патенты 20070018360, 20100193994.
  29. ↑ Проект «Ангстрем-Т»: первая российская smart-foundry Архивная копия от 27 мая 2011 на Wayback Machine — Электроника НТБ 2008: «Мы предполагаем работать на уровне 0,11-0,13 мкм. Это возможно, поскольку именно таково технологическое разрешение степперов (литографов) компании ASML.» // electronics.ru
  30. ↑ http://nanotech.iu4.bmstu.ru/learning_program/magistr/doc/primer.doc (недоступная ссылка) "На технологической линии НИИСИ РАН используется проекционная литографическая установка PAS5500/250C фирмы ASML "
  31. ↑ Архивированная копия. Дата обращения: 12 ноября 2010. Архивировано 6 сентября 2014 года. «с использованием установки пошаговой мультипликации ASML PAS 5500/250С»… «ТП фотолитографии на фабрике НИИСИ РАН.»

Ссылки[править | править код]

  • asml.com — официальный сайт ASML
Источник — https://ru.wikipedia.org/w/index.php?title=ASML&oldid=136811445